众所周知，在尖端制程芯片制造领域，荷兰ASML的极紫外（EUV）光刻系统一直居于垄断地位。然而，一家来自挪威的初创公司——Lace Lithography，正试图用一种全新的原子光刻（BEUV）技术来挑战这一格局。

IT之家 3 月 25 日消息，科技媒体 Tom's Hardware 昨日（3 月 24 日）发布博文，报道称在微软参投下，挪威芯片初创公司 Lace Lithography 宣布完成了 4000 万美元（IT之家注：现汇率约合 2.76 ...

ASML又有新挑战者！ 据报道，挪威初创企业Lace Lithography 获得微软支持，完成4000万美元A轮融资，用于研发一款芯片制造设备，该设备不使用光线，而是采用氦原子束在硅片上进行图形加工。Lace声称其技术可制造出比当前光刻系统小 ...

据路透社报道，由微软投资的挪威初创企业Lace Lithography于周一完成 4000 万美元 A 轮融资，用于研发一款芯片制造设备。该设备不采用光源，而是利用氦原子束在硅片上进行图形刻蚀。 该公司称，其技术可制造出比现有光刻系统小 10 ...

众所周知，光刻技术是现代半导体制造的核心，直接决定了芯片的性能、尺寸和成本。在这场技术竞赛中，荷兰的ASML凭借其极紫外光（EUV）光刻技术占据了无可争议的霸主地位。不过，近日，国内外媒体及网络接连曝出佳能通过纳米压印光刻（NIL）以及中国通过 ...

ASML去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外光刻机，同时正在研究更强大的Hyper NA EUV光刻机，预计可将半导体工艺推进 ...

终于找时间把写荷兰光刻机巨头 ASML（阿斯麦）的书《芯片制造：光刻巨头 ASML 传奇之路》读完。也是很巧，12 月 18 日，路透社发了一篇报道说，中国在深圳建造出了一台极紫外（EUV）光刻机原型机。 报道说，这是中国的“曼哈顿计划”。此前全世界只有荷兰 ...

众所周知，目前全球仅ASML一家能够生产EUV光刻机。 目前ASML对外出货的光刻机，其实均是数值孔径NA=0.33的光刻机，这种称之为低数值孔径的光刻机，一般用于3nm-7nm芯片的光刻。 而当芯片进入到3nm之下，也就是2nm、1.4nm、1nm芯片时，需要用到高数值孔径的光刻机 ...

ASML意图靠先进的EUV光刻机维持，然而一季度的数据却显示中国市场继续是它的最大收入来源市场，占比近五成，由于对中国市场出售光刻机受到限制，对中国市场的销售收入减少，导致ASML的业绩出现大跌。 ASML公布的一季度业绩显示，营收同比下降21%，净利润 ...

虽然近期台积电高管表示，台积电接下来的A16/A14制程都不会采用ASML售价高达4亿美元的High NA EUV光刻机（具有0.5数值孔径 ...

在半导体制造行业，DUV（深紫外）光刻机可以用于制造7nm及以上工艺的芯片，涵盖了大部分数字芯片和几乎所有的模拟芯片，而ASML则凭借着对EUV光刻机和浸润式DUV光刻机的垄断，掌控着全球几乎所有晶圆厂的芯片制造命脉。 2024年4月，克里斯托夫·富凯（Christophe ...

11月5日，世界光刻机巨头荷兰阿斯麦ASML亮相第三届进博会。作为全球唯一能生产EUV（极紫外光）光刻机的企业，由于ASML目前仍不能向中国出口EUV光刻机，所以此次展示的是其DUV（深紫外光）光刻机。据悉，该产品可生产7nm及以上制程芯片。 ASML此次也带来了其 ...