近日据芯智讯报道，俄罗斯自研出EUV光刻机。这一重大突破或将打破ASML在该领域的技术垄断，为全球半导体产业带来新的变革。 EUV光刻机是制造先进芯片的关键设备，制造 EUV 光刻机的技术难度令人难以置信，全球还没有任何一个国家能单独造出EUV光刻机，即使 ...

编者注：本文作者汤之上隆先生为日本精密加工研究所所长，曾长期在日本制造业的生产第一线从事半导体研发工作，2000年获得京都大学工学博士学位，之后一直从事和半导体行业有关的教学、研究、顾问及新闻工作者等工作，曾撰写《日本“半导体”的失败 ...

众所周知，光刻技术是现代半导体制造的核心，直接决定了芯片的性能、尺寸和成本。在这场技术竞赛中，荷兰的ASML凭借其极紫外光（EUV）光刻技术占据了无可争议的霸主地位。不过，近日，国内外媒体及网络接连曝出佳能通过纳米压印光刻（NIL）以及中国通过 ...

在半导体制造行业，DUV（深紫外）光刻机可以用于制造7nm及以上工艺的芯片，涵盖了大部分数字芯片和几乎所有的模拟芯片，而ASML则凭借着对EUV光刻机和浸润式DUV光刻机的垄断，掌控着全球几乎所有晶圆厂的芯片制造命脉。 2024年4月，克里斯托夫·富凯（Christophe ...

ASML意图靠先进的EUV光刻机维持，然而一季度的数据却显示中国市场继续是它的最大收入来源市场，占比近五成，由于对中国市场出售光刻机受到限制，对中国市场的销售收入减少，导致ASML的业绩出现大跌。 ASML公布的一季度业绩显示，营收同比下降21%，净利润 ...

IT之家 3 月 19 日消息，比利时校际微电子研究中心 imec 当地时间 18 日宣布，其长期合作伙伴 ASML 已向其交付了一台高数值孔径 (High NA) 极紫外光 (EUV) 光刻系统，这款 EXE:5200 将在 imec ...

ASML去年底向Intel交付了全球第一台High NA EUV极紫外光刻机，同时正在研究更强大的Hyper NA EUV光刻机，预计可将半导体工艺推进 ...

虽然我国正在竞相使用与华为相关的 SiCarrier 和 Yuliangsheng 的本土工具来缩小光刻差距，但现实情况是，极紫外 （EUV） 光刻技术仍然是一个完全不同的领域。能够打印 5nm 以下芯片的机器不仅复杂，而且是全球科学合作的巅峰之作。 以 ASML 为例，这是一家拥有 EUV ...

目前全球仅有ASML一家能够生产EUV光刻机，而制造7nm以下芯片，又必须使用到EUV光刻机，所以ASML相当于卡住了全球先进晶圆厂的脖子。 于是ASML推出的1.5亿欧元的标准EUV光刻机，台积电等厂商不得不买，后来再推出3.5亿欧元的High NA EUV光刻机，intel们继续买。

随着北京向半导体自力更生迈进，高端芯片制造工具不可或缺，但由 ASML 控制的光刻技术带来了最大的挑战，其用于 5 纳米以下芯片的 EUV 机器禁止出口。值得注意的是，ASML 2025 年第三季度销售额的 42% 来自中国，这凸显了该国对这家荷兰巨头不太先进的 DUV ...

EUV 技术的可扩展性具有持续的成本效益，有望使客户进一步从多重曝光转向使用低数值孔径（0.33 NA）EUV和高数值孔径（0.55 NA ...

快科技12月2日消息，EUV技术对5nm以下的先进工艺已经必不可少，全球唯一能生产EUV光刻机的只有荷兰ASML，美国现在也在这个领域加大了投资，官方下场投资了一家初创企业。 这家公司名为xLight，他们的目标是开发新一代EUV光源，不同于ASML公司复杂的等离子体 ...